2019 年 7 月 22 日，对于中微公司来说，是一个具有历史意义的日子。这一天，中微公司成功登陆科创板，成为科创板首批上市企业之一。科创板的设立，为科技创新型企业提供了一个重要的融资平台，也为中微公司的发展带来了新的机遇。
上市后，中微公司获得了大量的资金支持，这些资金为公司的研发投入、产能扩张和市场拓展提供了有力保障。公司加大了在研发方面的投入，不断推出新产品，提升产品性能。同时，中微公司还利用募集到的资金，扩大了生产规模，提高了产能，以满足市场对其产品的需求。
登陆科创板也极大地提升了中微公司的品牌影响力和市场知名度。作为科创板首批上市企业，中微公司受到了社会各界的广泛关注，吸引了众多投资者的目光。这不仅为公司的发展赢得了更多的资源和支持，也为公司吸引了更多优秀的人才，进一步增强了公司的核心竞争力。
持续创新与规模扩张（2020 - 至今）
进入 2020 年，中微公司继续保持着强劲的发展势头。在技术创新方面，公司持续加大研发投入，不断探索新的技术和工艺。2023 年，公司在研发领域的投入高达 12.62 亿元，同比增长 35.89%，研发投入占公司总收入的比例为 20.15% 。这些投入使得公司在刻蚀设备、薄膜设备等领域取得了一系列重要突破。
在刻蚀设备方面，中微公司的等离子体刻蚀设备技术不断升级，已成功应用于从 65 纳米到 5 纳米及更先进节点的制造工艺，刻蚀精度达到了 100 “皮米” 以下水平，相当于头发丝 350 万分之一的精准度，能够满足 90% 以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖 5 纳米及以下更先进水平。公司的 CCP 刻蚀设备反应腔全球出货量超 3000 台，累计已有超过 700 台 ICP 和 TSV 设备在国内外生产线实现量产，市场占有率不断提高。
在薄膜设备领域，中微公司推出了多款新产品，如 Preforma Uniflex? CW、Preforma Uniflex? HW、 Preforma Uniflex? AW 等，以满足市场对不同薄膜沉积工艺的需求。公司新开发的 LPCVD 薄膜设备和 ALD 薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中 LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破 100 个反应台，2024 年实现首台销售，全年设备销售约 1.56 亿元 。此外，公司的 EPI 设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在 Micro - LED 和高端显示领域的 MOCVD 设备开发上也取得了良好进展，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场。
在规模扩张方面，中微公司积极推进生产基地的建设。2023 年，公司位于南昌的生产研发基地正式投入运营，上海临港生产和研发基地目前也已部分启用，位于临港滴水湖畔的总部大楼的建设工作也在稳步推进中。不久之后，中微公司的厂房和办公楼总面积将达到 45 万平方米，为公司进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平奠定坚实的基础。
现状：业务布局与市场地位
核心业务与产品
如今，中微公司已成长为一家在半导体设备领域极具影响力的企业，其业务涵盖刻蚀设备、MOCVD 设备、薄膜沉积设备等多个关键领域。
刻蚀设备作为中微公司的核心业务之一，在市场上表现卓越。公司的等离子体刻蚀设备技术处于国际先进水平，已成功应用于从 65 纳米到 5 纳米及更先进节点的制造工艺，能够满足 90% 以上的刻蚀应用需求。其中，CCP 刻蚀设备反应腔全球出货量超 3000 台，累计已有超过 700 台 ICP 和 TSV 设备在国内外生产线实现量产。其出色的刻蚀精度、稳定性和生产效率，使其在全球半导体刻蚀设备市场中占据了重要地位。
MOCVD 设备方面，中微公司在高端照明和显示市场取得了显着成绩，开发的 MOCVD 设备在国内外已占据超 70% 的市场份额 。公司不断对 MOCVD 设备进行技术升级和创新，推出了一系列高性能的产品，如 Prismo UniMax? 等，满足了市场对高品质 LED 外延片和 Micro - LED 的生产需求。
在薄膜沉积设备领域，中微公司同样成果丰硕。公司推出了多款新产品，如 Preforma Uniflex? CW、Preforma Uniflex? HW、 Preforma Uniflex? AW 等，涵盖了多种薄膜沉积工艺。新开发的 LPCVD 薄膜设备和 ALD 薄膜设备也已进入市场并获得重复性订单，其中 LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破 100 个反应台，2024 年实现首台销售，全年设备销售约 1.56 亿元 。公司的 EPI 设备已顺利进入客户端量产验证阶段，在关键薄膜沉积设备研发项目上也正在顺利推进。
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